个人简历

招生专业
080903-微电子学与固体电子学
085209-集成电路工程
080300-光学工程
招生方向
新原理装备技术
集成电路先导工艺技术
先进光刻
教育背景
1986-02--1989-12 清华大学物理系 博士
1983-09--1986-01 东南大学电子工程系 硕士
1979-09--1983-08 东南大学电子工程系 学士

工作简历
2011-04~现在, 中国科学院微电子所, 研究员，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”特聘专家
2009-05~2011-03,荷兰皇家飞利浦公司照明研发中心(中国), 总监
2001-01~2009-04, 荷兰阿斯麦(ASML)光刻机设备公司, 产品研发经理，高级工程师
1999-02~1999-12,荷兰原子分子物理研究所, 研究员
1998-02~1999-01,荷兰代尔夫特技术大学, 访问研究员
1990-01~1998-01,北京交通大学, 先后担任教研室主任、系主任

教授课程
集成电路制造工艺与设备
光电信息技术
激光原理

专利成果
（ 1 ） 一种垂向调整装置, 发明, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201410718598.8
（ 2 ） 一种平凸透镜对心安装装置, 发明, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201410676554.3
（ 3 ） 一种光学元件的精密对心粘胶装置, 发明, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201410643329X
（ 4 ） 一种调焦调平传感器测量装置, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: 201410374962.3
（ 5 ） 一种光学精密系统的对准装置, 发明, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201410185976.0
（ 6 ） 一种气体分析装置及方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: 2013 1 0430575.2
（ 7 ） Off-axis leveling in lithographic projection apparatus, 发明, 2005, 第 4 作者, 专利号: US 6,924,884 B2
（ 8 ） 一种用于EUV真空环境中的电子学装置, 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: 201310172932.X
（ 9 ） 一种EUV光源污染物收集装置, 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: 2012 10479101.2
（ 10 ） 一种靶源预整形增强的极紫外光发生装置, 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: 2013 10003089.2
（ 11 ） 一种集光系统防污染保护装置, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: 2012 10505346.8
（ 12 ） 一种光谱椭偏测量装置及方法, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: 2013 10436198.3
（ 13 ） 一种精密面型测量装置, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: 201511020844.3
（ 14 ） 一种位移测量校正装置和方法, 发明, 2016, 第 2 作者, 专利号: 201610317866.4
（ 15 ） 一种图像自动对焦技术方法和设备, 发明, 2017, 第 2 作者, 专利号: 201710307961.0

科研项目
（ 1 ） EUVL技术体系与研发方案研究, 主持, 国家级, 2012-01--2018-12
（ 2 ） 浸没光刻机系统需求与技术指标分析和评估, 主持, 国家级, 2012-01--2014-12
（ 3 ） 投影曝光检测系统关键部件分析及试验研究, 参与, 国家级, 2013-01--2018-12
（ 4 ） 光刻精密对焦技术研究, 主持, 国家级, 2017-01--2020-12
（ 5 ） EUV光刻机离轴对焦技术研究与部件开, 参与, 国家级, 2018-01--2020-12
（ 6 ） 14nm浸没光刻套刻对准关键技术研究, 参与, 国家级, 2018-01--2020-12

研究领域

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近期论文

（1） 浸没光刻机对焦控制技术研究, Focus Control Technology in Immersion Lithography, 光学学报, 2018, 通讯作者
（2） 基于SEM图像的自动对焦技术, Auto-focusing technology based on SEM image, 微纳电子技术, 2017, 通讯作者
（3） 基于空间分光的纳米级调焦调平测量技术, Nanoscale Focusing and Leveling Measurement Technology Based on Optical Spatial Split, 光学学报, 2016, 通讯作者
（4） 纳米光刻中调焦调平测量系统工艺相关性研究, Process Dependency of Focusing and Leveling Measurement System in Nanoscale Lithography, 光学学报, 2016, 通讯作者
（5） 一种对称式双光栅干涉位移测量系统的研制, Development of a Symmetrical Double-grating Interferometric Displacement Measuring System, 中国激光, 2016, 通讯作者
（6） Quantitative detection of subsurface defects by pulse-heating infrared thermography, SPIE，Vol.3558,pp.402--406, 1998, 第 1 作者
（7） 利用红外热成像技术检测金属材料内部近表缺陷, 红外与毫米波学报, 1998, 第 2 作者
（8） 列车滚动轴承故障诊断, 无损检测, 1998, 第 1 作者
（9） 尼龙材料内部缺陷的红外热成像无损检测, 红外技术, 1997, 第 2 作者
（10） Pulse-heating infrared thermography non-destructive testing technique, SPIE, Vol.2899, pp.654--659, 1996, 第 1 作者
（11） PVT无损检测系统及理论模型, 激光与红外, 1996, 第 1 作者
（12） NO分子里德伯态O′2пˉ的双光子激发谱, 原子与分子物理学报, 1993, 第 1 作者
（13） NO分子A2Σ+和E2Σ+能级的LIF光谱, 中国激光, 1992, 第 1 作者
（14） NO分子里德伯态H′2пˉ的荧光跃迁通道的研究, 中国激光, 1992, 第 1 作者
（15） 双光子激发NO分子里德伯态H′2пˉ的光谱研究, 光学学报, 1991, 第 1 作者
（16） 激光喇曼光谱法诊断火焰, 中国激光, 1986, 第 1 作者
2011-10-01-今,中国科学院长春光机所兼职研究员,
2011-09-01-今,哈尔滨工业大学兼职教授,
2011-04-01-今,国家02科技重大专项特聘专家,
2011-04-01-今,中国科学院光电研究院兼职研究员