个人简历

2004年毕业于武汉工程大学材料物理专业，2011年获得武汉工程大学材料学专业硕士学位，2011-2014年在中科院等离子体物理研究所攻读博士学位，2014年获中国科学院理学博士学位。2014年至今，在武汉工程大学材料物理专业任教，从事关于等离子体工艺，薄膜生长，碳材料的研发等方面的研究工作。

研究领域

等离子体工艺，金刚石膜生长，新型碳材料

近期论文

(1) J. Weng ，J.H. Wang，S.Y. Dai，L.W. Xiong，W.D. Man，F. Liu，Preparation of diamond films with controllable surface morphology, orientation and quality in an overmoded microwave plasma CVD chamber，Applied Surface Science，2013，276：529-534。
(2) J. Weng ，L.W. Xiong，J.H. Wang，S.Y. Dai，W.D. Man，F. Liu，Investigation of depositing large area uniform diamond films in multi-mode MPCVD chamber，Diamond and Related Materials，2012，30：15-19。
(3) 翁俊，熊礼威，汪建华，满卫东，陈冠虎，Effect of Gas Sources on theDeposition of Nano-Crystalline Diamond Films Prepared by Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，Plasma Science and Technology，2010，（06）：760-764
(4) 翁俊，刘繁，孙祁，王小安，黄平，周璐，陈义，汪建华，氮气体积浓度对高微波功率沉积金刚石膜的影响，金刚石与磨料磨具工程，2015，35（3）：23-28。