赵士超
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资料介绍
个人简历
1999.07本科毕业于西北轻工业学院材料科学与工程专业;2003.03硕士毕业于浙江工程学院纺织化学与染整专业;2006.06博士毕业于浙江大学材料科学与工程专业。2006.06-至今就职于杭州电子科技大学,从事教学科研工作。任职期间,曾于2010.08-2011.07和2013.11-2014.12到美国University of Pittsburgh化学系学习和科研。科研项目主持或参与多项国家自然科学基金、浙江省自然科学基金和浙江省科技厅等项目。研究领域
纳米材料、光电器件、氧化硅刻蚀"纳米材料;氧化硅刻蚀;染料与稳定性;无机非金属材料;半导体材料及其光电器件;陶瓷"近期论文
1. DNA分子光刻。研究论文Molecular lithography through DNA-Mediated etching and masking of SiO2发表于J. Am. Chem. Soc (2011),133(31),11868-11871,被Nature materials、Nanowerk、Chemistry world转载介绍。2. 石墨烯性能研究。研究论文Photochemical oxidation of CVD-grown single layer graphene 刊于Nanotechnology (2012),23(35)。3. 荧光染料光漂白研究。研究论文Raman enhancement and photo-bleaching of organic dyes in the presence of chemical vapor deposition-grown graphene, 发表于Nanomaterials (2017),7(10)。4. 类石墨烯二维材料h-BN、MoS2、WS2生长与性能研究。代表成果有Effect ofprecursor purity and flow rate on the CVD growth of hexagonal boron nitride,J. Alloy. Compd. (2016),688, 1006-1012 。5. 有机无机复合光电探测器件研究。代表成果有A Bilayer 2D-WS2/organic-based heterojunction for high-performance photodetectors发表于Nanomaterials (2019),9(1312)。 相关热点
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